技術交流
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DE500 Sputter 磁控濺射儀直流起輝功率低于10W，并可保持輝光穩定工作
2013-02-05 00:00:00 -
DE500 Sputter 磁控濺射儀批次均勻性重復性優于+/-5%
2013-02-05 00:00:00 -
DE500 Sputter 磁控濺射儀基片加熱溫度高達1000度
2013-02-05 00:00:00 -
DE500 Sputter 磁控濺射儀鉻膜附著力經3M膠帶剝離測試薄膜無脫離
2013-02-05 00:00:00 -
DE500 Sputter 磁控濺射儀射頻濺射的反射功率為零
2013-02-05 00:00:00
